第八届结技术国际研讨会成功召开

    由中国电子学会和日本应用物理学会硅技术分会主办、由复旦大学微电子研究院承办的第八届结技术国际研讨会（IWJT－2008）于2008年5月15－16日在上海国际贵都大饭店胜利召开。IWJT是一个在国际学术组织IEEE注册的正式系列会议，这是第三次由复旦大学承办。来自美国、日本、英国、法国、德国、比利时、荷兰、韩国、8个国家的47人、中国台湾代表6人以及来自国内各高校、科研院所及半导体企业的32位代表出席了会议。

    与会代表对研讨会论文质量和会场内外研讨气氛给予了高度评价。IEEE EDS分会前主席，国际上非常活跃的微电子学科学家 Hiroshi Iwai教授认为这个专题研讨会已成为微电子技术领域的顶级会议之一。IWJT-2008在中国上海成功召开，为国内大学、研究所、先进芯片制造公司从事集成电路研究的科学家、工程师、研究生们提供了一个良好的机会，使他们及时了解到美国、日本、欧洲等地结技术研究最新前沿动态，能与富有经验的国际知名专家进行面对面交流，同时IWJT-2008也使海外专家、厂商更进一步了解到中国大陆尤其是上海地区微电子产业发展的情况，为他们未来与中国大陆微电子界的合作、投资提供了宝贵的参考。

参会人员合影

复旦大学微电子研究院   
2008-6-1