由中国电子学会和日本应用物理学会硅技术分会主办、由我校微电子研究院承办的第六届结技术国际研讨会（IWJT－2006）于2006年5月15－16日在上海国际贵都大饭店胜利召开。杨玉良副校长为会议致欢迎辞。该会议属于国际电子电气工程师协会电子器件学会下属的系列会议，也是微电子技术领域的顶级专题研讨会之一。来自美国、日本、英国、法国、德国、韩国、新加坡等11个国家和地区的80位代表和来自国内各高校、科研院所及半导体企业的50位代表出席了会议，共同就结技术展开了为期两天的广泛交流和热烈讨论。共有75篇论文在会议上进行了口头报告和张贴展示。由于微电子研究院李炳宗教授等具体筹会人员的准备充分，与会代表对研讨会论文质量和会务服务质量都给予了高度的评价，使我校微电子学科的国际影响力得到进一步提升。此外，我校2004年曾成功地举办了第四届国际结技术研讨会（IWJT－2004），会议论文集收录的85篇论文已全部被EI索引。